El procés de fabricació de tela conductora inclou principalment els següents passos clau:
Selecció i pretractament de matèries primeres: el material bàsic de la tela conductora és la fibra conductora, que es divideix principalment en dues categories: fibra metàl·lica i fibra de carboni. La fibra metàl·lica està fabricada majoritàriament en fibra d’aliatge de coure amb plata amb un diàmetre de microns 8-12, que té les característiques de la conductivitat estable i la resistència a l’oxidació; La fibra de carboni està feta de fibra modificada basada en poliacrilonitril amb un diàmetre de microns 5-8, que té els avantatges del pes lleuger i la resistència a la corrosió. El drap base sol utilitzar fibra de polièster de gran resistència o fibra de niló, i el recompte de filats es controla entre 40-60. Després que les matèries primeres entrin a la fàbrica, han de ser tractats amb temperatura i humitat constants durant 48 hores per assegurar -se que el contingut d’humitat de la fibra és estable entre el 8%-10%.
Teixit: la fibra conductora i el fil de tela base estan disposats en una proporció d’1: 3 mitjançant una màquina d’ordenació per lots, la velocitat d’ordenació es controla a 200-250 metres/minut, i la tensió WARP es manté a 0. 3-0. 5 Newtons/Tex. El teler Rapier s'utilitza per al teixit de doble capa, sent la capa superior la capa de fibra conductora i la capa inferior és la capa de suport del teixit base. Quan s’estableix els paràmetres del teler, el temps d’obertura es controla a 290 graus -310 graus i la força de pallissa de trama s’estableix en {{9} N. Durant el procés de teixit, la uniformitat de la superfície de la superfície del teixit està supervisada en temps real i la resistència a la superfície ± 15%. Post-processament: el teixit gris després del teixit ha de ser processat per una rentadora contínua. El líquid de rentat utilitza un detergent neutre amb un valor de pH de 6. 5-7. 5, i la temperatura de l'aigua es manté al grau 60-70. Després del rentat, entra a la màquina de configuració d'aire calent i està definit per la calor per a 3-5 minuts a una temperatura de {{19} graus per fusionar completament la fibra conductora amb la fibra de tela base. Posteriorment, la tecnologia de recobriment de sputtering de buit s'utilitza per a la millora de la conductivitat secundària. El teixit es col·loca en un entorn de buit PA de 10^{21 {21}} i una capa conductora de nanòmetre de nanòmetre de nanòmetre gruixut es diposita uniformement a la superfície del teixit a través de la ruixada de magnetrons. Es pot reduir la resistència superficial del teixit tractat.